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GB/T 28892-2024 表面化学分析 X射线光电子能谱 选择仪器性能参数的表述 即将实施 发布日期 :  2024-03-15 实施日期 :  2024-07-01

本文件描述了表述X射线光电子能谱仪特定性能参数的方法。

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本文件描述了量子点光转换膜光学性能的测试方法,包括方法原理、仪器和设备、测试样品、测试程序、数据处理、测试报告等。
本文件适用于液晶显示器件用量子点光转换膜光学性能的测量,其他类型光转换膜光学性能的测量参照执行。

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本文件给出了量子点光转换膜(Q-LCF)的光学可靠性测定方法和可靠性判定指标。
本文件适用于液晶显示器件用量子点光转换膜的光学可靠性测定,其他具有光转换作用的膜材参照执行。

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本文件规定了如何报告X射线光电子能谱的峰拟合及其结果。本文件适用于单个谱图或一组相关谱图的拟合,例如在深度剖析测试中采集获得的一组相关谱图。本文件提供了一个应报告的参数列表,以实现可重复的峰拟合或对多个谱进行拟合与比较。本文件不提供峰拟合的操作说明,也不提供应采用的拟合步骤。

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本文件规定了一种通过测定溅射速率校准材料溅射深度的方法,即在一定溅射条件下测定一种具有单层或多层膜参考物质的溅射速率,用作相同材料膜层的深度校准。当使用俄歇电子能谱(AES)、X射线光电子能谱(XPS)和二次离子质谱(SIMS)进行深度分析时,这种方法对于厚度在20 nm~200 nm之间的膜层具有5%~10%的准确度。溅射速率是由参考物质相关界面间的膜层厚度和溅射时间决定。使用已知的溅射速率并结合溅射时间,可以得到被测样品的膜层厚度。测得的离子溅射速率可用于预测各种其他材料的离子溅射速率,从而可以通过溅射产额和原子密度的表值估算出这些材料的深度尺度和溅射时间。

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GB/T 36401-2018 表面化学分析 X射线光电子能谱 薄膜分析结果的报告 现行 发布日期 :  2018-06-07 实施日期 :  2019-05-01

本标准给出了采用XPS对基材上薄膜的分析报告所需的最少信息量要求的说明。这些分析涉及化学组成和均匀薄膜厚度的测量,以及采用变角XPS、XPS溅射深度剖析、峰形分析和可变光子能量XPS的方式对非均匀薄膜作为深度函数的化学组成的测量。

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GB/T 22571-2017 表面化学分析 X射线光电子能谱仪 能量标尺的校准 现行 发布日期 :  2017-09-07 实施日期 :  2018-01-01

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本标准规定了分析者使用X射线光电子能谱(XPS)分析试样后应报告信息的最低要求。包括原始记录和分析记录的信息。

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GB/Z 32490-2016 表面化学分析 X射线光电子能谱 确定本底的程序 现行 发布日期 :  2016-02-24 实施日期 :  2017-01-01

本指导性技术文件给出了确定X射线光电子能谱中本底的指南。本指导性技术文件适用于固体表面X射线激发的光电子和俄歇电子能谱的本底确定。

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本标准规定了在俄歇电子能谱和X射线光电子能谱均匀材料定量分析中相对灵敏度因子的实验测量和使用指南。

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GB/T 30704-2014 表面化学分析 X射线光电子能谱 分析指南 现行 发布日期 :  2014-06-09 实施日期 :  2014-12-01

本标准适用于X射线光电子能谱仪的操作者分析典型样品。本标准帮助操作者完成整个分析过程,包括样品处理,谱仪校准和设定以及宽扫描谱和窄扫描谱的采集,并给出了定量和准备最终报告的建议。

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本标准规定了俄歇电子能谱和X射线光电子能谱横向分辨率、分析面积和分析器所能检测到的样品面积的测量方法。
本标准适用于俄歇电子能谱和X射线光电子能谱横向分辨率、分析面积和分析器的检测。

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本标准规定了如何描述X射线光电子能谱仪的特定性能。

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本标准规定了俄歇电子能谱和X射线光电子能谱的峰强度测量的分析结果报告中所要求的必要信息。提供了峰强度测量方法和所得峰面积的不确定度信息。

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本标准规定了三种条件下测量俄歇电子能谱仪和X射线光电子能谱仪横向分辨率的方法。直边法适用于横向分辨率预期值大于1 μm的仪器。栅格法适合于横向分辨率预期值大于20 nm,小于1 μm的仪器。金岛法则适用于横向分辨率预期值小于50 nm的仪器。
附录A、附录B和附录C给出了测量横向分辨率的带图的实例。

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