本标准规定了纳米材料超双亲性能检测方法的术语及定义、方法原理、仪器和试剂、样品制备、检测条件、检测步骤及结果评定、检测报告等。
本标准适用于检测经纳米技术处理，组成均匀、光滑、不变形（在液体表面张力的垂直分量的作用下）和各向同向性的固体表面超双亲性能。
本标准不适用于能够吸收所测液体的材料。

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本标准规定了纳米材料超双疏性能检测方法的术语和定义、方法原理、仪器和试剂、样品制备、检测条件、检测步骤及结果评定、检测报告等。
本标准适用于检测经纳米技术进行处理的材料的超疏水和超疏油性能，材料表面应是均匀、光滑、不变形（在液体表面张力的垂直分量作用下）和各向同性的固体表面。

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本标准规定了家用卫生杀虫用品的烟尘量试验方法。
本标准适用于固态燃香及烟制剂产品。

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本标准规定了固体有机化学品纯度测定的差示扫描量热法。
本标准适用于具有明确熔点的热稳定固体有机化学品的纯度测定，其给出的是试样中杂质的总含量，而不能得出单一杂质的含量。

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本标准规定了差示扫描量热法测定熔点的原理、仪器设备、分析步骤、试验报告及精度。
本标准适用于具有明确熔点的热稳定性有机化学品的熔点测定。

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本文件规定了俄歇电子能谱和X射线光电子能谱的峰强度测量的分析结果报告中所要求的必要信息，也提供了峰强度测量方法和导出的峰面积不确定度的信息。

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本标准规定了俄歇电子能谱和X射线光电子能谱横向分辨率、分析面积和分析器所能检测到的样品面积的测量方法。
本标准适用于俄歇电子能谱和X射线光电子能谱横向分辨率、分析面积和分析器的检测。

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本标准规定了溅射深度剖析中测量溅射深度的准则。
本标准适用于结合离子轰击剥离部分固体样品的表面化学分析技术，通常溅射深度可达几微米。

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针对于常规分析使用的电子枪能量至少为2 keV的俄歇电子能谱仪，本标准规定了一种评估其强度标的重复性和恒定性的方法。它仅适用于配备了溅射清洁用离子枪的仪器。本标准并非旨在成为一种强度/能量响应函数的校准，这种校准可由仪器厂商或者其他机构制定。本方法提供数据以评估和确认仪器使用中强度/能量响应函数保持恒定的精度，对可影响这种恒定性的一些仪器设置给出了指导。

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本标准规定了辉光放电原子发射光谱法分析锌和/或铝基合金镀层中镀层厚度、镀层质量(单位面积)和金属镀层中化学成分。需要考虑的合金化元素有镍、铁、硅、铅和锑。
本标准适用的元素质量分数范围:锌(0.01%～100%)，铝(0.01%～100%)，镍(0.01%～20%)，铁(0.01%～20%)，硅(0.01%～10%)，铅(0.005%～2%)，锑(0.005%～2%)。

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本标准规定了用扫描电子显微镜及能谱仪对沉积岩自生粘土矿物的晶体形态及化学成分进行鉴定的方法。
本标准主要用于石油、天然气沉积岩中常见自生粘土矿物鉴定分析。其他自生粘土矿物鉴定分析可参照执行。

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本文件提供了采用辉光放电发射光谱法(Glow discharge optical emission spectrometry，以下简称GDOES，)进行深度剖析和体相分析的指南。本文件仅限于讨论刚性固体样品的分析，不包括粉末、气体或溶液的分析。结合现有和将来特定的标准方法，本文件旨在能够实现仪器的规范管理和测量条件的控制。尽管近年来有不同类型的辉光放电发射光源问世，但目前绝大多数使用直流和射频光源的辉光放电光谱设备仍以空心阳极的Grimm型为主。然而不同于最初Grimm型光源阴极接触样品正面的设计，一些光源的阴极接触常置于样品背面，例如Marcus型光源。本文件包含的条款同样适用于上述 2种和其他类型的光源，Grimm型光源仅作为一个实例。

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本标准规定了计算机层析成像（CT)技术用于致密岩石微纳米级孔隙结构成像的术语和定义、分析方法、技术要求、数据处理、分析报告内容与不确定度分析。本标准适用于泥页岩、致密碳酸盐岩、致密砂岩、煤岩等岩石的微纳米级CT分析，其他地质样品也可参照执行。

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本标准规定了用电子背散射衍射法(EBSD)对抛光截面进行平均晶粒尺寸的测定方法，包含与晶体试样中的位置相关的取向、取向差和花样质量因子的测量要求[1]。
注1： 使用光学显微镜测定晶粒尺寸已为大家普遍接受，与其相比，EBSD具有很多技术优势，如高的空间分辨率和晶粒取向的定量描述等。
注2： 该方法还可用于一些复杂材料（如双相材料）的晶粒尺寸测量。
注3： 对变形程度较大的试样进行分析时，需谨慎处理结果。

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