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【国家标准】 电子工业用气体　硅烷

本网站 发布时间： 2017-12-01
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适用范围：

本标准规定了硅烷气体的技术要求、试验方法、标志、包装、贮运及安全的内容。本标准适用于硅化镁法、氢化铝钠还原四氟化硅法、氯硅烷歧化工艺法制备的电子工业用硅烷。  它主要用于制作高纯多晶硅、二氧化硅的低温化学气相淀积、氮化硅化学气相淀积、多晶硅隔离层、多晶硅欧姆接触层和异质或同质硅外延生长原料以及离子注入源和激光介质等，还可用于制作太阳能电池、光导纤维和光电传感器等。分子式：SiH4。相对分子质量：32.117（按2011年国际相对原子质量）。

基本信息

  • 标准号：

    GB/T 15909-2017

  • 标准名称：

    电子工业用气体　硅烷

  • 英文名称：

    Gas for electronic industry—Silane

  • 标准状态：

    现行

  • 发布日期：

    2017-05-31

  • 实施日期：

    2017-12-01

  • 出版语种：

    中文简体

标准分类号

  • 标准ICS号：

    71.100.20

  • 中标分类号：

    G86

关联标准

  • 替代以下标准：

  • 被以下标准替代：

  • 引用标准：

  • 采用标准：

出版信息

  • 页数：

    16 页

  • 字数：

    20 千字

  • 开本：

    大16 开

其他信息

  • 起草人：

    余京松、杨智敏、傅铸红、杜汉盛、孙福楠、牛艳东、李长富、周朋云、曲庆、方华、陈鹰、常侠、刘晓霞、周延江、高平洲、徐昕

  • 起草单位：

    西南化工研究设计院有限公司、浙江赛林硅业有限公司、广东华特气体股份有限公司、中昊光明化工研究设计院有限公司、高麦仪器公司、天津长芦华信化工股份有限公司、大连大特气体有限公司、上海华爱色谱分析技术有限公司、上海计量测试研究院、化工气体质检中心、江苏中能硅业科技发展有限公司、浙江中宁硅业有限公司、南京亚格泰新能源材料有限公司、浙江大学、安徽省滁州市硅谷特种气体有限公司

  • 归口单位：

    全国半导体设备和材料标准化技术委员会气体分技术委员会(SAC/TC 203/SC 1)

  • 提出部门：

    全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)

  • 发布部门：

    中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会
  • 其它标准
  • 推荐标准

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