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【国家标准】 表面化学分析　全反射X射线荧光光谱法(TXRF)测定硅片表面元素污染

本网站 发布时间： 2021-12-01
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适用范围：

本文件描述了测量经化学机械抛光或外延生长的硅片上表面元素污染的原子表面密度的TXRF方法。
本文件适用于以下情形：
——原子序数从16（S）到92（U）的元素；
——原子表面密度介于1×1010 atoms/cm2~1×1014 atoms/cm2之间的污染元素；
——采用VPD（气相分解）样品制备方法得到的原子表面密度介于5×108 atoms/cm2~5×1012 atoms/cm2之间的污染元素（见3.4）。

基本信息

  • 标准号：

    GB/T 40110-2021

  • 标准名称：

    表面化学分析　全反射X射线荧光光谱法(TXRF)测定硅片表面元素污染

  • 英文名称：

    Surface chemical analysis—Determination of surface elemental contamination on silicon wafers by total-reflection X-ray fluorescence (TXRF) spectroscopy

  • 标准状态：

    现行

  • 发布日期：

    2021-05-21

  • 实施日期：

    2021-12-01

  • 出版语种：

    中文简体

标准分类号

  • 标准ICS号：

    71.040.40

  • 中标分类号：

    G04

关联标准

  • 替代以下标准：

  • 被以下标准替代：

  • 引用标准：

  • 采用标准：

    《表面化学分析　全反射X射线荧光光谱法(TXRF)测定硅片表面元素污染》 IDT 等同采用

出版信息

  • 页数：

    28 页

  • 字数：

    44 千字

  • 开本：

    大16 开

其他信息

  • 起草人：

    王海、张艾蕊、王梅玲、任丹华、徐昕荣、范燕

  • 起草单位：

    中国计量科学研究院、华南理工大学

  • 归口单位：

    全国微束分析标准化技术委员会(SAC/TC 38)

  • 提出部门：

    全国微束分析标准化技术委员会(SAC/TC 38)

  • 发布部门：

    国家市场监督管理总局、国家标准化管理委员会
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