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【国家标准】 表面化学分析　硅片工作标准样品表面元素的化学收集方法和全反射X射线荧光光谱法(TXRF)测定

本网站 发布时间： 2014-08-29
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适用范围：

本标准规定了硅片工作标准样品表面元素铁和/或镍的化学收集方法（气相分解法或直接酸性液滴分解法）和全反射X射线荧光光谱法（TXRF）测定。

基本信息

  • 标准号：

    GB/T 30701-2014

  • 标准名称：

    表面化学分析　硅片工作标准样品表面元素的化学收集方法和全反射X射线荧光光谱法(TXRF)测定

  • 英文名称：

    Surface chemical analysis—Chemical methods for the collection of elements from the surface of silicon-wafer working reference materials and their determination by total-reflection X-ray fluorescence(TXRF) spectroscopy

  • 标准状态：

    现行

  • 发布日期：

    2014-06-09

  • 实施日期：

    2014-12-01

  • 出版语种：

    中文简体

标准分类号

  • 标准ICS号：

    71.040.40

  • 中标分类号：

    G04

关联标准

  • 替代以下标准：

  • 被以下标准替代：

  • 引用标准：

  • 采用标准：

    《表面化学分析　硅片工作标准样品表面元素的化学收集方法和全反射X射线荧光光谱法（TXRF）测定》 IDT 等同采用

出版信息

  • 页数：

    24 页

  • 字数：

    31 千字

  • 开本：

    大16 开

其他信息

  • 起草人：

    王海、宋小平、王梅玲、高思田、冯流星

  • 起草单位：

    中国计量科学研究院

  • 归口单位：

    全国微束分析标准化技术委员会(SAC/TC 38)

  • 提出部门：

    全国微束分析标准化技术委员会(SAC/TC 38)

  • 发布部门：

    中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会
  • 其它标准
  • 推荐标准

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