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GB/Z 32490-2016 表面化学分析 X射线光电子能谱 确定本底的程序 现行 发布日期 :  2016-02-24 实施日期 :  2017-01-01

本指导性技术文件给出了确定X射线光电子能谱中本底的指南。本指导性技术文件适用于固体表面X射线激发的光电子和俄歇电子能谱的本底确定。

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GB/Z 32494-2016 表面化学分析 俄歇电子能谱 化学信息的解析 现行 发布日期 :  2016-02-24 实施日期 :  2017-01-01

本指导性技术文件规定了识别X射线或者电子激发的俄歇谱中的化学效应以及把它们用于化学表征的方法准则。

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GB/T 32495-2016 表面化学分析 二次离子质谱 硅中砷的深度剖析方法 现行 发布日期 :  2016-02-24 实施日期 :  2017-01-01

 本标准详细规定了用扇形磁场或四极杆式二次离子质谱仪对硅中砷进行深度剖析的方法,以及用触针式轮廓仪或光学干涉仪深度定标的方法。本标准适用于砷原子浓度范围从1×1016 atoms/cm3~2.5×1021 atoms/cm3的单晶硅、多晶硅、非晶硅样品,坑深在50 nm及以上。

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本标准规定了分析者使用俄歇电子能谱(AES)分析试样后随即应报告信息的最低要求,包括原始记录和分析记录的信息。

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GB/T 30815-2014 表面化学分析 分析样品的制备和安装方法指南 现行 发布日期 :  2014-06-24 实施日期 :  2015-02-01

本标准提供了表面化学分析样品安装和表面处理方法的指导。目的是帮助分析人员理解在使用俄歇电子能谱、二次离子质谱和X射线光电子能谱等表面分析技术进行分析时,所必需的专门样品处理条件。

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本标准规定了硅片工作标准样品表面元素铁和/或镍的化学收集方法(气相分解法或直接酸性液滴分解法)和全反射X射线荧光光谱法(TXRF)测定。

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本标准规定了在俄歇电子能谱和X射线光电子能谱均匀材料定量分析中相对灵敏度因子的实验测量和使用指南。

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GB/T 30704-2014 表面化学分析 X射线光电子能谱 分析指南 现行 发布日期 :  2014-06-09 实施日期 :  2014-12-01

本标准适用于X射线光电子能谱仪的操作者分析典型样品。本标准帮助操作者完成整个分析过程,包括样品处理,谱仪校准和设定以及宽扫描谱和窄扫描谱的采集,并给出了定量和准备最终报告的建议。

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本标准规定了俄歇电子谱仪动能标不确定度为3 eV时的校准方法,用于识别表面常规元素。另外,还规定一种用于确定校准周期的方法。本标准适用于直接模式或微分模式的仪器分辨率小于等于0.5%,微分模式调制幅度的峰峰值为2 eV。本标准适用于配有惰性气体离子枪或其他样品清洁方法,具有4 keV或更高束能电子枪的谱仪。

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本标准规定了俄歇电子能谱和X射线光电子能谱横向分辨率、分析面积和分析器所能检测到的样品面积的测量方法。
本标准适用于俄歇电子能谱和X射线光电子能谱横向分辨率、分析面积和分析器的检测。

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GB/T 29557-2013 表面化学分析 深度剖析 溅射深度测量 现行 发布日期 :  2013-07-19 实施日期 :  2014-03-01

本标准规定了溅射深度剖析中测量溅射深度的准则。
本标准适用于结合离子轰击剥离部分固体样品的表面化学分析技术,通常溅射深度可达几微米。

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GB/T 29558-2013 表面化学分析 俄歇电子能谱 强度标的重复性和一致性 现行 发布日期 :  2013-07-19 实施日期 :  2014-03-01

针对于常规分析使用的电子枪能量至少为2 keV的俄歇电子能谱仪,本标准规定了一种评估其强度标的重复性和恒定性的方法。它仅适用于配备了溅射清洁用离子枪的仪器。本标准并非旨在成为一种强度/能量响应函数的校准,这种校准可由仪器厂商或者其他机构制定。本方法提供数据以评估和确认仪器使用中强度/能量响应函数保持恒定的精度,对可影响这种恒定性的一些仪器设置给出了指导。

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本标准规定了辉光放电原子发射光谱法分析锌和/或铝基合金镀层中镀层厚度、镀层质量(单位面积)和金属镀层中化学成分。需要考虑的合金化元素有镍、铁、硅、铅和锑。
本标准适用的元素质量分数范围:锌(0.01%~100%),铝(0.01%~100%),镍(0.01%~20%),铁(0.01%~20%),硅(0.01%~10%),铅(0.005%~2%),锑(0.005%~2%)。

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本标准规定了如何描述X射线光电子能谱仪的特定性能。

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