本标准规定了化工产品使用说明书（以下简称使用说明书）的基本内容与编写方法。
本标准适用于除军事、化工机械与设备类的化工产品外的使用说明书的编写。

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本标准规定了X射线光电子能谱仪的检定方法。本标准适用于使用非单色化Al或Mg X射线或单色化Al X射线，且带有溅射清洁用离子枪的X射线光电子能谱仪的检定。

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本标准以最少量的资料描述了用X射线光电子能谱测量绝缘样品内能级结合能，及将在报告其分析结果时所采用的荷电控制和荷电校正方法，也给出了在结合能测量过程中对于荷电控制和荷电校正有用的方法资料。

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本标准指定了一种由离子注入参考物质确定二次离子质谱分析中相对灵敏度因子的方法。
本标准适用于基体化学成分单一的样品，其中注入物质的峰值原子浓度不超过1%。

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本文件规定了俄歇电子能谱仪特定性能参数的表述要求。
本文件适用于俄歇电子能谱仪的性能参数表述。

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本标准规定了一种准确测量硅晶片表面超薄氧化硅层厚度的方法，即X射线光电子能谱法（XPS）。本标准适用于热氧化法在硅晶片表面制备的超薄氧化硅层厚度的准确测量；通常，本标准适用的氧化硅层厚度不大于6 nm。

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本标准规定了纳米材料超双亲性能检测方法的术语及定义、方法原理、仪器和试剂、样品制备、检测条件、检测步骤及结果评定、检测报告等。
本标准适用于检测经纳米技术处理，组成均匀、光滑、不变形（在液体表面张力的垂直分量的作用下）和各向同向性的固体表面超双亲性能。
本标准不适用于能够吸收所测液体的材料。

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本标准规定了纳米材料超双疏性能检测方法的术语和定义、方法原理、仪器和试剂、样品制备、检测条件、检测步骤及结果评定、检测报告等。
本标准适用于检测经纳米技术进行处理的材料的超疏水和超疏油性能，材料表面应是均匀、光滑、不变形（在液体表面张力的垂直分量作用下）和各向同性的固体表面。

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本文件界定了电子探针显微分析（EPMA)实践中使用的术语，包括一般概念的术语和按仪器、分析方法分类的特定概念的术语。本文件适用于相关领域(SEM、AEM、EDX等)的所有标准和实践文件中通用术语的定义。

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本标准采用辉光放电原子发射光谱法用于定量测定钢表面纳米、亚微米尺度薄膜（金属镀膜和氧化膜）中膜厚、镀层质量（单位面积）和薄膜中的元素深度分布。
本方法适用于测定3 nm~1 000 nm厚度的钢表面薄膜，适用的元素包括：铁、铬、镍、铜、钛、锰、铝、碳、磷、氧、氮和硅。

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本标准规定了利用辉光放电发射光谱测定金属氧化物膜厚度、单位面积质量和金属氧化物膜化学组成的方法。本方法适用于测定金属上厚度为1 nm～10 000 nm的氧化物膜，氧化物的金属元素包括铁、铬、镍、铜、钛、硅、钼、锌、镁、锰和铝中的一种或多种。其他可测元素还包括氧、碳、氮、氢、磷和硫。

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本标准规定了在电子激发绝缘样品的俄歇电子能谱测量中，描述荷电控制方法所需的最少信息，该信息也一并报告在分析结果中。参见附录A提供的现有的AES分析前或分析期间荷电控制的有用方法。表A.1对各种方法和途径进行了总结，并依方法的简单性排列。表A.1中的一些方法对大多数仪器是可用的，一部分则需要特殊的硬件，还有部分可能涉及样品的重装或变动。

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本标准规定了生物试样扫描电子显微镜分析的技术要求和规范。本标准适用于各种类型的扫描电子显微镜。

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