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【国家标准】 微电子学微光刻技术术语

本网站 发布时间： 2025-02-08
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适用范围：

本文件界定了微电子学微光刻技术有关的微电子光刻技术，先进光刻技术，微光刻图形化和图形数据处理技术，微光刻感光材料、铬板与基板材料，光掩模技术，光刻工艺（曝光、刻蚀与微纳米加工）技术，电子束掩模制造与直写技术，光刻及掩模质量参数测量和评定，掩模制造设备和微光刻设备等术语和定义。
本文件适用于微电子学微光刻技术领域的教学、科研、生产、应用、贸易和技术交流。

基本信息

  • 标准号：

    GB/T 44928-2024

  • 标准名称：

    微电子学微光刻技术术语

  • 英文名称：

    Terms of microlithography technology for microelectronics

  • 标准状态：

    现行

  • 发布日期：

    2024-12-31

  • 实施日期：

    2024-12-31

  • 出版语种：

    中文简体

标准分类号

  • 标准ICS号：

    31.030

  • 中标分类号：

    L90

关联标准

  • 替代以下标准：

  • 被以下标准替代：

  • 引用标准：

  • 采用标准：

出版信息

  • 页数：

    192 页

  • 字数：

    351 千字

  • 开本：

    大16 开

其他信息

  • 起草人：

    陈宝钦、王香、李和委、王力玉、李新涛、冯伯儒、薛丽君、郝美玲、薛彩荣

  • 起草单位：

    中国科学院微电子研究所

  • 归口单位：

    全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)

  • 提出部门：

    全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)

  • 发布部门：

    国家市场监督管理总局、国家标准化管理委员会
  • 其它标准
  • 推荐标准

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