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- GB/T 32280-2015 硅片翘曲度测试自动非接触扫描法
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适用范围:
本标准规定了硅片翘曲度的非破坏性、自动非接触扫描测试方法。本标准适用于直径不小于50 mm,厚度不小于100 μm的洁净、干燥的切割、研磨、腐蚀、抛光、刻蚀、外延或其他表面状态硅片的翘曲度测试。本方法可用于监控因热效应和(或)机械效应引起的硅片翘曲,也可用于砷化镓、蓝宝石等其他半导体晶片的翘曲度测试。
标准号:
GB/T 32280-2015
标准名称:
硅片翘曲度测试自动非接触扫描法
英文名称:
Test method for warp of silicon wafers—Automated non-contact scanning method标准状态:
被代替-
发布日期:
2015-12-10 -
实施日期:
2017-01-01 出版语种:
中文简体
起草人:
孙燕、何宇、徐新华、王飞尧、张海英、楼春兰、向兴龙起草单位:
有研半导体材料有限公司、上海合晶硅材料有限公司、杭州海纳半导体有限公司、浙江金瑞泓科技股份有限公司、浙江省硅材料质量检验中心、东莞市华源光电科技有限公司归口单位:
全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)、全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会(SAC/TC 203/SC 2)提出部门:
全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)、全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会(SAC/TC 203/SC 2)发布部门:
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会
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