【国家标准】硅外延用三氯氢硅化学分析方法　硼、铝、磷、钒、铬、锰、铁、钴、镍、铜、钼、砷和锑量的测定　电感耦合等离子体质谱法

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标准简介

本标准规定了用电感耦合等离子体质谱仪（ICP-MS）测定硅外延用三氯氢硅（SiHCl3）中硼、铝、磷、钒、铬、锰、铁、钴、镍、铜、钼、砷、锑等痕量元素含量的方法。
本标准适用于硅外延用三氯氢硅（SiHCl3）中硼、铝、磷、钒、铬、锰、铁、钴、镍、铜、钼、砷、锑等含量的测定。各元素测定范围见表1。

硅行业相关人员.

标准号：
GB/T 29056-2012
标准名称：
硅外延用三氯氢硅化学分析方法　硼、铝、磷、钒、铬、锰、铁、钴、镍、铜、钼、砷和锑量的测定　电感耦合等离子体质谱法
英文名称：
Trichlorosilane for silicon epitaxy—Determination of boron,aluminium,phosphorus,vanadium,chrome,manganese,iron,cobalt,nickel,copper,arsenic,molybdenum and antimony content—Inductively coupled plasma mass spectrometric method
标准状态：
现行
发布日期：
2012-12-31
实施日期：
2013-10-01
出版语种：
中文简体

【国家标准】 硅外延用三氯氢硅化学分析方法 硼、铝、磷、钒、铬、锰、铁、钴、镍、铜、钼、砷和锑量的测定 电感耦合等离子体质谱法