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【国家标准】 表面化学分析　二次离子质谱　用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度

本网站 发布时间： 2025-07-28
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适用范围：

本文件详细说明了用标定的均匀掺杂物质（用注入硼的参考物质校准）确定单晶硅中硼的原子浓度的二次离子质谱方法。它适用于均匀掺杂硼浓度范围从1×1016 atoms/cm3～1×1020 atoms/cm3。

基本信息

  • 标准号：

    GB/T 20176-2025

  • 标准名称：

    表面化学分析　二次离子质谱　用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度

  • 英文名称：

    Surface chemical analysis—Secondary-ion mass spectrometry—Determination of boron atomic concentration in silicon using uniformly doped materials

  • 标准状态：

    即将实施

  • 发布日期：

    2025-06-30

  • 实施日期：

    2026-01-01

  • 出版语种：

    中文简体

标准分类号

  • 标准ICS号：

    71.040.40

  • 中标分类号：

    G04

关联标准

  • 替代以下标准：

  • 被以下标准替代：

  • 引用标准：

  • 采用标准：

    《表面化学分析　二次离子质谱　用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度》 IDT 等同采用

出版信息

  • 页数：

    24 页

  • 字数：

    30 千字

  • 开本：

    大16 开

其他信息

  • 起草人：

    李展平、郭冲、王梦琴、和平、王富芳、刘兆伦、郎玉博、李芹、张硕、刘可心、吴美璇、陈建、伏晓国

  • 起草单位：

    清华大学、中国地质大学(北京)、中国矿业大学(北京)、中国人民公安大学、北京大学、中山大学、中国工程物理研究院材料研究所

  • 归口单位：

    全国表面化学分析标准化技术委员会(SAC/TC 608)

  • 提出部门：

    全国表面化学分析标准化技术委员会(SAC/TC 608)

  • 发布部门：

    国家市场监督管理总局、国家标准化管理委员会
  • 其它标准
  • 推荐标准

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