【国家标准】打印显示　薄膜均匀性测试方法

本网站发布时间： 2025-03-03

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标准简介

本文件描述了打印显示薄膜均匀性的测试方法，主要包括子像素均匀性、相邻子像素均匀性、短程均匀性测试方法。
本文件适用于使用探针式表面轮廓仪（以下称台阶仪)和白光干涉仪对厚度范围为5 nm~105 nm的打印显示薄膜均匀性的测试。

起草人：
张志刚、杨京龙、李新国、徐晓光、马晓宇、代青、毕岩、孙力、施槐庭、黄瑜、曹可慰、吴怡然、赵俊莎、汪康、王铁、包金豹、乔娟、高文正、戈烨铭、何珂、周辉、陈建平、付东、余磊、黄卫东、朱龙山、袁鹏、王霞
起草单位：
京东方科技集团股份有限公司、奥来德(上海)光电材料科技有限公司、北京鼎材科技有限公司、中国电子技术标准化研究院、合肥京东方卓印科技有限公司、合肥鼎材科技有限公司、TCL华星光电技术有限公司、江阴润玛电子材料股份有限公司、广东东溢新材料科技有限公司、广东聚华印刷显示技术有限公司、深圳御光新材料有限公司、衢州英特高分子材料有限公司、绍兴旭源新材料科技有限公司
归口单位：
全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)
提出部门：
全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)
发布部门：
国家市场监督管理总局、国家标准化管理委员会

【国家标准】 打印显示 薄膜均匀性测试方法