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- GB/T 46717-2025 半导体器件 金属化空洞应力试验
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标准号:
GB/T 46717-2025
标准名称:
半导体器件 金属化空洞应力试验
英文名称:
Semiconductor devices—Metallization stress void test标准状态:
即将实施-
发布日期:
2025-10-31 -
实施日期:
2026-05-01 出版语种:
中文简体
起草人:
裴选、席善斌、杨俊锋、侯继儒、卫云、高东阳、尹丽晶、吴亚光、赵昱、柯佳键、任怀龙、肖庆中、龙秀才、程志勇、曲韩宾、高博、李潇龙、曲佳健、赵妍婷起草单位:
中国电子科技集团公司第十三研究所、河北北芯半导体科技有限公司、广州天极电子科技股份有限公司、中国核电工程有限公司河北分公司、广东科信电子有限公司、河北新华北集成电路有限公司、工业和信息化部电子第五研究所、中山奥士森电子有限公司、深圳市微特精密科技股份有限公司、河北赛美科技有限公司归口单位:
全国半导体器件标准化技术委员会(SAC/TC 78)提出部门:
中华人民共和国工业和信息化部发布部门:
国家市场监督管理总局、国家标准化管理委员会
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