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【行业标准】 高纯钨化学分析方法 痕量杂质元素的测定 电感耦合等离子体质谱法

本网站 发布时间: 2014-04-02
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标准简介标准简介

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适用范围:

本标准规定了高纯钨中锂、铍、硼、铬、钛、钒、锰、铁、钴、镍、铜、镓、砷、锶、锆、钽、铌、钼、镉、锑、铪、铅和铋量的测定方法。
本标准适用于高纯钨中痕量杂质的测定,测定范围:0.000 1%~0.010%。

基本信息

  • 标准号:

    YS/T 900-2013

  • 标准名称:

    高纯钨化学分析方法 痕量杂质元素的测定 电感耦合等离子体质谱法

  • 英文名称:

    Methods for chemical analysis of the high purity tungsten—Determination of trace impurity element content—Inductively coupled plasma mass spectrometry
  • 标准状态:

    现行
  • 发布日期:

    2013-10-17
  • 实施日期:

    2014-03-01
  • 出版语种:

    中文简体

标准分类号

  • 标准ICS号:

    77.120.99
  • 中标分类号:

    H63

关联标准

  • 替代以下标准:

  • 被以下标准替代:

  • 引用标准:

  • 采用标准:

出版信息

  • 页数:

    8 页
  • 字数:

    8 千字
  • 开本:

    大16 开

其他信息

  • 起草人:

    张殿凯 李艳芬 刘英 孙泽明 童坚 臧慕文 张江峰 邱平 文英
  • 起草单位:

    北京有色金属研究总院、金川新材料科技股份有限公司、东方电气集团峨嵋半导体材料有限公司
  • 归口单位:

    全国有色金属标准化技术委员会(SAC/TC 243)
  • 提出部门:

  • 发布部门:

    中华人民共和国工业和信息化部
  • 推荐标准
  • 国家标准计划