【国家标准】用于先进集成电路光刻工艺综合评估的图形规范

本网站发布时间： 2014-02-08

GB/T 29844-2013
现行
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标准简介

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适用范围：

本标准规定了用于先进集成电路光刻工艺综合评估的标准测试图形单元的形状、一般尺寸，以及推荐的布局和设计规则，这些标准测试图形包括可供光学显微镜和扫描电子显微镜用的各种图形单元。
本标准适用集成电路的工艺、常规掩模版、光致抗蚀剂和光刻机的特征和能力作出评价及交替移相掩模版相位测量，适用于g线、i线、KrF、ArF等波长的光刻设备及相应的光刻工艺。

基本信息

标准号：
GB/T 29844-2013
标准名称：
用于先进集成电路光刻工艺综合评估的图形规范
英文名称：
Specifications for metrology patterns for the evaluation of advanced photolithgraphy
标准状态：
现行
发布日期：
2013-11-12
实施日期：
2014-04-15
出版语种：
中文简体

标准分类号

标准ICS号：
31.030
中标分类号：
L90

关联标准

替代以下标准：
被以下标准替代：
引用标准：
采用标准：

出版信息

页数：
12 页
字数：
20 千字
开本：
大16 开

其他信息

起草人：
王雷、伍强、朱骏、陈宝钦
起草单位：
上海华虹NEC电子有限公司
归口单位：
全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)
提出部门：
全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)
发布部门：
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会

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