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【国家标准】 热解吸气相色谱法测定硅片表面的有机污染物

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适用范围：

1.1　本标准规定了硅片表面的有机污染物的定性和定量方法，采用气质联用仪或磷选择检测器或者两者同时采用。1.2　本标准描述了热解吸气相色谱仪（TD-GC）以及有关样品制备和分析的相关程序。

读者对象：

硅片表面金属沾污测定相关人员。

基本信息

  • 标准号：

    GB/T 24577-2009

  • 标准名称：

    热解吸气相色谱法测定硅片表面的有机污染物

  • 英文名称：

    Test methods for analyzing organic contaminants on silicon wafer surfaces by thermal desorption gas chromatography

  • 标准状态：

    现行

  • 发布日期：

    2009-10-30

  • 实施日期：

    2010-06-01

  • 出版语种：

    中文简体

标准分类号

  • 标准ICS号：

    29.045

  • 中标分类号：

    H80

关联标准

  • 替代以下标准：

  • 被以下标准替代：

  • 引用标准：

  • 采用标准：

    《热解吸附气相色谱法评估硅片表面有机污染物的方法》 MOD 修改采用

出版信息

  • 页数：

    16 页

  • 字数：

    19 千字

  • 开本：

    大16 开

其他信息

  • 起草人：

    王奕、褚连青、李静

  • 起草单位：

    信息产业部专用材料质量监督检验中心、中国电子科技集团公司第四十六研究所

  • 归口单位：

    全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会

  • 提出部门：

    全国半导体设备和材料标准化技术委员会

  • 发布部门：

    中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会
  • 其它标准
  • 推荐标准

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