【国家标准】确定晶片坐标系规范

本网站发布时间： 2020-02-10

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标准简介

本标准规定了使用直角坐标和极坐标建立晶片正面坐标系、背面坐标系和三维坐标系的程序。本标准适用于有图形和无图形的晶片坐标系的建立。该坐标系用于确定和记录晶片上的缺陷、颗粒等测试结果的准确位置。

起草人：
卢立延、孙燕、潘金平、杨素心、楼春兰、胡金枝、李素青
起草单位：
有色金属技术经济研究院、有研半导体材料有限公司、浙江海纳半导体有限公司、浙江省硅材料质量检验中心、上海合晶硅材料有限公司
归口单位：
全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)、全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会(SAC/TC 203/SC 2)
提出部门：
全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)、全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会(SAC/TC 203/SC 2)
发布部门：
国家市场监督管理总局、中国国家标准化管理委员会

【国家标准】 确定晶片坐标系规范