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GB/T 11068-2006 砷化镓外延层载流子浓度 电容-电压测量方法 现行 发布日期 :  2006-07-18 实施日期 :  2006-11-01

本标准规定了砷化镓外延层载流子浓度电容电压测量方法,适用于砷化镓外延层基体材料中载流子浓度的测量。测量范围:1×1014 cm-3~5×1017 cm-3。

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GB/T 11073-2007 硅片径向电阻率变化的测量方法 现行 发布日期 :  2007-09-11 实施日期 :  2008-02-01

本标准规定了用直排四探针法测量硅单晶片径向电阻率变化的方法。 本标准适用于厚度小于探针平均间距、直径大于15 mm、电阻率为1×10-3 Ω·cm~3×103 Ω·cm硅单晶圆片径向电阻率变化的测量。

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GB/T 14849.1-2020 工业硅化学分析方法 第1部分:铁含量的测定 现行 发布日期 :  2020-03-06 实施日期 :  2021-02-01

GB/T 14849的本部分规定了工业硅中铁含量的测定方法。
本部分适用于工业硅中铁含量的测定。测定范围为:0.050%~0.75%。

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GB/T 14849.3-2020 工业硅化学分析方法 第3部分:钙含量的测定 现行 发布日期 :  2020-03-06 实施日期 :  2021-02-01

GB/T 14849的本部分规定了工业硅中钙含量的测定方法。
本部分适用于工业硅中钙含量的测定,测定范围为:0.005 0%~0.55%。

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GB/T 19922-2005 硅片局部平整度非接触式标准测试方法 现行 发布日期 :  2005-09-19 实施日期 :  2006-04-01

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GB/T 8758-2006 砷化镓外延层厚度红外干涉测量方法 现行 发布日期 :  2006-07-18 实施日期 :  2006-11-01

本标准适用于砷化镓外延片外延层厚度的测量,测量厚度大于2μm。要求衬底材料的电阻率小于0.02Ω·cm,外延层的电阻率大于0.1Ω·cm。

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GB/T 32277-2015 硅的仪器中子活化分析测试方法 现行 发布日期 :  2015-12-10 实施日期 :  2017-01-01

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GB/T 19199-2015 半绝缘砷化镓单晶中碳浓度的红外吸收测试方法 现行 发布日期 :  2015-12-10 实施日期 :  2016-07-01

本标准规定了半绝缘砷化镓单晶中碳浓度的红外吸收测试方法。本标准适用于电阻率大于106Ω·cm的非掺杂和碳掺杂半绝缘砷化镓单晶中碳浓度的测定。测量范围:室温下从1.0×1015 atoms/cm3到代位碳原子的最大溶解度,77 K时检测下限为4.0×1014 atoms/cm3。

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GB/T 1557-2018 硅晶体中间隙氧含量的红外吸收测量方法 现行 发布日期 :  2018-09-17 实施日期 :  2019-06-01

本标准规定了采用红外光谱法测定硅单晶晶体中间隙氧含量的方法。本标准适用于室温电阻率大于0.1 Ω·cm的N型硅单晶和室温电阻率大于0.5 Ω·cm的P型硅单晶中间隙氧含量的测定。以常温红外设备测试时,氧含量(原子数)测试范围从1×1016 cm-3到硅中间隙氧的最大固溶度;以低温红外设备测试时,氧含量(原子数)的测试范围从0.5×1015 cm-3到硅中间隙氧的最大固溶度。

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GB/T 1558-2023 硅中代位碳含量的红外吸收测试方法 现行 发布日期 :  2023-12-28 实施日期 :  2024-07-01

本文件描述了硅中代位碳原子含量的红外吸收测试方法。
本文件适用于电阻率大于3 Ω·cm的p型硅单晶片及电阻率大于1 Ω·cm的n型硅单晶片中代位碳原子含量的测试(室温下测试范围:5×1015 cm-3至硅中碳原子的最大固溶度;温度低于80 K时测试范围:不小于5×1014 cm-3)。

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GB/T 39144-2020 氮化镓材料中镁含量的测定 二次离子质谱法 现行 发布日期 :  2020-10-11 实施日期 :  2021-09-01

本标准规定了氮化镓材料中镁含量的二次离子质谱测试方法。
本标准适用于氮化镓材料中镁含量的定量分析,测定范围为不小于5×1014 cm-3。

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GB/T 39145-2020 硅片表面金属元素含量的测定 电感耦合等离子体质谱法 现行 发布日期 :  2020-10-11 实施日期 :  2021-09-01

本标准规定了电感耦合等离子体质谱法测定硅片表面金属元素含量的方法。
本标准适用于硅单晶抛光片和硅外延片表面痕量金属钠、镁、铝、钾、钙、铬、锰、铁、钴、镍、铜、锌元素含量的测定,测定范围为108 cm-2~1013 cm-2。本标准同时也适用于硅退火片、硅扩散片等无图形硅片表面痕量金属元素含量的测定。
注:硅片表面的金属元素含量以每平方厘米的原子数计。

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GB/T 42263-2022 硅单晶中氮含量的测定 二次离子质谱法 现行 发布日期 :  2022-12-30 实施日期 :  2023-04-01

本文件描述了硅单晶中氮含量的二次离子质谱测试方法。本文件适用于硼、锑、砷、磷的掺杂浓度小于1×1020 cm-3(0.2%)的硅单晶中氮含量的测定,测定范围不小于1×1014 cm-3。注: 硅单晶中氮含量以每立方厘米中的原子数计。

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GB/T 42276-2022 氮化硅粉体中氟离子和氯离子含量的测定 离子色谱法 现行 发布日期 :  2022-12-30 实施日期 :  2023-04-01

本文件描述了氮化硅粉体中氟离子和氯离子含量的离子色谱测定方法。本文件适用于氮化硅粉体中氟离子和氯离子含量的测定,测试范围为0.050 0 mg/g~0.600 mg/g。

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