- 您的位置:
- 中国标准在线服务网 >>
- 全部标准分类 >>
- 国家标准 >>
- H17 >>
- GB/T 47089-2026 蓝宝石图形化衬底表面图形几何参数的测定方法
【国家标准】 蓝宝石图形化衬底表面图形几何参数的测定方法
本网站 发布时间:
2026-02-12
开通会员免费在线看70000余条国内标准,赠送文本下载次数,单本最低仅合13.3元!还可享标准出版进度查询、定制跟踪推送、标准查新等超多特权!  
查看详情>>
标准号:
GB/T 47089-2026
标准名称:
蓝宝石图形化衬底表面图形几何参数的测定方法
英文名称:
Test method for determining geometrical parameters of patterns on patterned sapphire substrate标准状态:
即将实施-
发布日期:
2026-01-28 -
实施日期:
2026-08-01 出版语种:
中文简体
起草人:
张能、米波、肖桂明、朱晶、王子荣、朱广敏、康凯、鲁雅荣、王新强、徐军、袁冶起草单位:
广东中图半导体科技股份有限公司、徐州美兴光电科技有限公司、京东方华灿光电股份有限公司、天通银厦新材料有限公司、松山湖材料实验室、南京同溧晶体材料研究院有限公司归口单位:
全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)、全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会(SAC/TC 203/SC 2)提出部门:
全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)、全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会(SAC/TC 203/SC 2)发布部门:
国家市场监督管理总局、国家标准化管理委员会
- 其它标准
- 推荐标准
- GB/T 4326-2025 非本征半导体单晶霍尔迁移率和霍尔系数测量方法
- GB/T 11073-2025 硅片径向电阻率变化测量方法
- GB/T 29056-2025 硅外延用三氯氢硅中杂质含量的测定 电感耦合等离子体质谱法
- GB/T 47089-2026 蓝宝石图形化衬底表面图形几何参数的测定方法
- GB/T 8758-2006 砷化镓外延层厚度红外干涉测量方法
- GB/T 24581-2022 硅单晶中Ⅲ、Ⅴ族杂质含量的测定 低温傅立叶变换红外光谱法
- GB/T 26067-2010 硅片切口尺寸测试方法
- GB/T 26070-2010 化合物半导体抛光晶片亚表面损伤的反射差分谱测试方法
- GB/T 19922-2005 硅片局部平整度非接触式标准测试方法
- GB/T 42263-2022 硅单晶中氮含量的测定 二次离子质谱法
- GB/T 42276-2022 氮化硅粉体中氟离子和氯离子含量的测定 离子色谱法
- GB/T 32277-2015 硅的仪器中子活化分析测试方法
- GB/T 32281-2015 太阳能级硅片和硅料中氧、碳、硼和磷量的测定 二次离子质谱法
- GB/T 37049-2018 电子级多晶硅中基体金属杂质含量的测定 电感耦合等离子体质谱法
- GB/T 37211.2-2018 金属锗化学分析方法 第2部分:铝、铁、铜、镍、铅、钙、镁、钴、铟、锌含量的测定 电感耦合等离子体质谱法
我的标准
购物车
400-168-0010










