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【国家标准】 氮化硅粉体中铁、铝、钙含量的测定 电感耦合等离子体发射光谱法
本网站 发布时间:
2026-02-27
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适用范围:
本文件描述了氮化硅粉体中铁、铝、钙含量的电感耦合等离子体发射光谱测定方法。
本文件适用于氮化硅粉体中铁、铝、钙含量的测定,测定范围为0.001 mg/g~4.00 mg/g。
本文件适用于氮化硅粉体中铁、铝、钙含量的测定,测定范围为0.001 mg/g~4.00 mg/g。
标准号:
GB/T 47081-2026
标准名称:
氮化硅粉体中铁、铝、钙含量的测定 电感耦合等离子体发射光谱法
英文名称:
Determination of iron,aluminum and calcium of silicon nitride powder—Inductively coupled plasma atomic emission spectrometry标准状态:
即将实施-
发布日期:
2026-01-28 -
实施日期:
2026-08-01 出版语种:
中文简体
起草人:
邱艳梅、刘国霞、李冰清、李兰兰、贾琳、李锦春、刘红亮、曹俊英、王春明、赵培芝、李强、陈彩霞、钟海炎、胡伟起草单位:
新疆新特新能材料检测中心有限公司、四川永祥新能源有限公司、山东中临半导体新材料有限公司、洛阳中硅高科技有限公司、江苏中能硅业科技发展有限公司、江苏鑫华半导体科技股份有限公司、青海南玻新能源科技有限公司、国标(北京)检验认证有限公司、高富高新材料(浙江)有限公司、松山湖材料实验室归口单位:
全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)、全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会(SAC/TC 203/SC 2)提出部门:
全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)、全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会(SAC/TC 203/SC 2)发布部门:
国家市场监督管理总局、国家标准化管理委员会
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