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【国家标准】 硅片局部平整度非接触式标准测试方法

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适用范围:

暂无

读者对象:

硅生产企业,技术监督检验部门,半导体生产及销售单位。

基本信息

  • 标准号:

    GB/T 19922-2005

  • 标准名称:

    硅片局部平整度非接触式标准测试方法

  • 英文名称:

    Standard test methods for measuring site flatness on silicon wafers by noncontact scanning
  • 标准状态:

    现行
  • 发布日期:

    2005-09-19
  • 实施日期:

    2006-04-01
  • 出版语种:

    中文简体

标准分类号

  • 标准ICS号:

    77.040.01
  • 中标分类号:

    H17

关联标准

  • 替代以下标准:

  • 被以下标准替代:

  • 引用标准:

  • 采用标准:

出版信息

  • 页数:

    12 页
  • 字数:

    14 千字
  • 开本:

    大16 开

其他信息

  • 起草人:

    史舸、蒋建国、陈兴邦、贺东江、王文、邓德翼
  • 起草单位:

    洛阳单晶硅有限责任公司、中国有色金属工业标准计量质量研究所
  • 归口单位:

    全国有色金属标准化技术委员会
  • 提出部门:

    中国有色金属工业协会
  • 发布部门:

    中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会
  • 其它标准
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