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【国家标准】 硅片局部平整度非接触式标准测试方法

本网站 发布时间： 2019-05-01
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适用范围：

暂无

读者对象：

硅生产企业，技术监督检验部门，半导体生产及销售单位。

基本信息

  • 标准号：

    GB/T 19922-2005

  • 标准名称：

    硅片局部平整度非接触式标准测试方法

  • 英文名称：

    Standard test methods for measuring site flatness on silicon wafers by noncontact scanning

  • 标准状态：

    现行

  • 发布日期：

    2005-09-19

  • 实施日期：

    2006-04-01

  • 出版语种：

    中文简体

标准分类号

  • 标准ICS号：

    77.040.01

  • 中标分类号：

    H17

关联标准

  • 替代以下标准：

  • 被以下标准替代：

  • 引用标准：

  • 采用标准：

出版信息

  • 页数：

    12 页

  • 字数：

    14 千字

  • 开本：

    大16 开

其他信息

  • 起草人：

    史舸、蒋建国、陈兴邦、贺东江、王文、邓德翼

  • 起草单位：

    洛阳单晶硅有限责任公司、中国有色金属工业标准计量质量研究所

  • 归口单位：

    全国有色金属标准化技术委员会

  • 提出部门：

    中国有色金属工业协会

  • 发布部门：

    中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会
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