【国家标准】电子级多晶硅中基体金属杂质含量的测定　电感耦合等离子体质谱法

本网站发布时间： 2019-04-01

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标准简介

本标准规定了电感耦合等离子体质谱仪（ICP-MS)测定电子级多晶硅中痕量基体金属杂质含量的方法。
本标准适用于GB/T 12963中在基体金属杂质小于5 ng/g范围内铁、铬、镍、铜、锌、钠含量的测定。

标准号：
GB/T 37049-2018
标准名称：
电子级多晶硅中基体金属杂质含量的测定　电感耦合等离子体质谱法
英文名称：
Test method for the content of metal impurity in electronic grade polysilicon—Inductively coupled-plasma mass spectrometry method
标准状态：
现行
发布日期：
2018-12-28
实施日期：
2019-04-01
出版语种：
中文简体

起草人：
鲁文锋刘晓霞秦榕孙燕赵而敬王桃霞赵玉王忠慧柳德发张园园银波邱艳梅刘强
起草单位：
江苏中能硅业科技发展有限公司、青海黄河上游水电开发有限责任公司新能源分公司、有研半导体材料有限公司、宜昌南玻硅材料有限公司、新特能源股份有限公司、洛阳中硅高科技有限公司
归口单位：
全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)、全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会（SAC/TC 203/SC 2)
提出部门：
全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)、全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会（SAC/TC 203/SC 2)
发布部门：
国家市场监督管理总局、中国国家标准化管理委员会

【国家标准】 电子级多晶硅中基体金属杂质含量的测定 电感耦合等离子体质谱法