【国家标准】电子级多晶硅中基体金属杂质含量的测定　电感耦合等离子体质谱法

本网站发布时间： 2019-04-01

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标准简介

本标准规定了电感耦合等离子体质谱仪（ICP-MS)测定电子级多晶硅中痕量基体金属杂质含量的方法。
本标准适用于GB/T 12963中在基体金属杂质小于5 ng/g范围内铁、铬、镍、铜、锌、钠含量的测定。

标准号：
GB/T 37049-2018
标准名称：
电子级多晶硅中基体金属杂质含量的测定　电感耦合等离子体质谱法
英文名称：
Test method for the content of metal impurity in electronic grade polysilicon—Inductively coupled-plasma mass spectrometry method
标准状态：
现行
发布日期：
2018-12-28
实施日期：
2019-04-01
出版语种：
中文简体

起草人：
鲁文锋、刘晓霞、秦榕、孙燕、赵而敬、王桃霞、赵玉、王忠慧、柳德发、张园园、银波、邱艳梅、刘强
起草单位：
江苏中能硅业科技发展有限公司、青海黄河上游水电开发有限责任公司新能源分公司、有研半导体材料有限公司、宜昌南玻硅材料有限公司、新特能源股份有限公司、洛阳中硅高科技有限公司
归口单位：
全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)、全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会（SAC/TC 203/SC 2)
提出部门：
全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)、全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会（SAC/TC 203/SC 2)
发布部门：
国家市场监督管理总局、中国国家标准化管理委员会

【国家标准】 电子级多晶硅中基体金属杂质含量的测定 电感耦合等离子体质谱法